錦華隆電子材料 NI鎳-P磷-ZN鋅 黑色鍍膜（納米微?；瘜W(xué)復(fù)合鍍）特點：
錦華隆電子材料 NI鎳-P磷-黑色鍍膜。當將要鍍的材料浸入鍍浴中時，在表面立即形成黑膜，并且該黑膜隨時間連續(xù)生長以獲得所需的膜厚度。 它是可以自動催化鍍層。 通過不僅催化鐵，銅，鋁，不銹鋼，合金材料等等。而且還催化非導(dǎo)電材料（例如塑料，玻璃，陶瓷等），形成具有良好附著力的黑色薄膜。不管材料的形狀如何，都可以均勻地鍍覆甚至復(fù)雜的形狀，孔和細網(wǎng)狀材料。
它具有導(dǎo)電性，并且抗紫外線。
具有吸光性和出色的散熱性
錦華隆電子材料 NI鎳-P磷-ZN鋅 黑色鍍膜（納米微?；瘜W(xué)復(fù)合鍍）基本特性：
1. 低反射率
由于表面上的細微不規(guī)則性，它與紫外線，可見光和近紅外線的波長范圍完全兼容。
2.電阻
2980 μΩ /厘米
3.導(dǎo)電率（IACS％）
0.06％
4.耐腐蝕性能
溫度35°C，濕度95％，336小時無變化
5.耐熱性能
即使在400°C下1小時也幾乎不變色（常壓爐）
6.高尺寸精度和均勻性
由于是化學(xué)鍍，因此膜厚均勻。
化學(xué)鍍覆蓋的鍍層厚度均一［指定厚度±10%（μ）以內(nèi)］。
7.黑色
薄膜在沉淀的同時變黑
8. 啞光膜無光澤
低光澤（見圖表）
鍍膜測試片（測試片基材：SPCC, 鍍層厚度：10μm）
測試片吸收光源狀態(tài)
化學(xué)復(fù)合鍍層與電鍍層的微觀表面區(qū)別：
化學(xué)鍍NI鎳-P磷黑色鍍膜（納米微粒化學(xué)復(fù)合）顯微鏡下的狀態(tài)：
?
鍍膜的反射率
鍍膜吸光率
鍍膜吸光狀態(tài)
錦華隆電子材料 NI鎳-P磷-ZN鋅 黑色鍍膜（納米微?；瘜W(xué)復(fù)合鍍）應(yīng)用：
醫(yī)療影像設(shè)備-吸收光源：吸收熱量-導(dǎo)出熱量，核心零部件保護（零部件應(yīng)用）
激光雷達-吸收光源（零部件應(yīng)用）
攝像設(shè)備 防止光反射-相機內(nèi)部（零部件應(yīng)用）
激光減反射：半導(dǎo)體制造設(shè)備（零部件應(yīng)用）
光學(xué)儀器設(shè)備-吸收光源（零部件應(yīng)用）
通過吸收光線，紫外線多余的光線讓設(shè)備呈現(xiàn)出最清晰的影像，吸收光線，吸收熱量，導(dǎo)出熱量可以給核心零部件進行保護。
可以吸收光線，讓設(shè)備呈現(xiàn)出更好的畫質(zhì)
可以吸收紫外線多余的光線，讓設(shè)備呈現(xiàn)出更好的畫質(zhì)
可以通過吸收光線吸收熱量，然后再導(dǎo)出熱量，實現(xiàn)對設(shè)備的保護
產(chǎn)品具有導(dǎo)電導(dǎo)熱性能和對核心零部件進行保護
本產(chǎn)品吸收熱量和散熱性非常優(yōu)越，可對核心的比如芯片或其他零部件進行保護，防止零部件高溫受到損傷
